超LSI回路とプロセス

著者

• 西澤, 潤一 ニシザワ, ジュンイチ

書誌事項

超LSI回路とプロセス

西澤潤一編

（半導体研究 / 半導体研究振興会編, 24巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 10）

工業調査会, 1986.8

タイトル読み

チョウ LSI カイロ ト プロセス

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• 半導体研究 (24巻)

  1986

  NDLデジタルコレクション

  限定公開

注記

執筆: 秋谷秀夫ほか

各章末: 参考文献

内容説明・目次

目次

• １　超高速バイポーラＬＳＩ技術
• ２　記憶用ＩＣの開発
• ３　ダイナミックＭＯＳメモリ技術—プロセス・デバイス技術を中心として
• ４　素子分離技術
• ５　サブミクロンプロセスにおけるドライエッチング技術
• ６　Ｓｉのマイクロ波プラズマエッチング
• ７　光励起プロセス—光励起エッチングを中心に
• ８　メタルシリサイドの形成と評価—ＴｉＳｉ２を中心として
• ９　メタルシリサイドのＩＣへの応用

「BOOKデータベース」 より

• NII書誌ID(NCID): BN00551043
• ISBN:
  • 4769310544
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 8, 324p
• 大きさ: 27cm
• 分類:
  • NDC8 : 549
  • NDLC : ND371
• 件名:
  • NDLSH : 半導体
• 親書誌ID:
  • BN00178314