半導体デバイス : 基礎理論とプロセス技術

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半導体デバイス : 基礎理論とプロセス技術

S.M.ジィー著 ; 南日康夫, 川辺光央, 長谷川文夫訳

産業図書, 1987.5

Other Title

Semiconductor devices : physics and technology

Title Transcription

ハンドウタイ デバイス : キソ リロン ト プロセス ギジュツ

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Note

参考文献: 章末

Description and Table of Contents

Description

本書は、半導体デバイスの基礎原理から、最新の製造技術まで述べた入門書である。三部から成り、すべての重要なプロセス技術の理論的かつ実際的知識を与える。また広く使われている半導体デバイスの動作原理を解り易く述べている。

Table of Contents

  • エネルギーバンドとキャリア密度
  • キャリアの輸送現象
  • ｐ‐ｎ接合
  • バイポーラ・デバイス
  • ユニポーラ・デバイス
  • マイクロ波デバイス
  • フォトニックデバイス
  • 結晶成長とエピタキシィ
  • 酸化および薄膜の推積
  • 拡散およびイオン注入
  • リソグラフィとエッチング
  • 集積回路

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Details

  • NCID
    BN00981610
  • ISBN
    • 4782855257
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Original Language Code
    eng
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    vi, 557 p
  • Size
    22cm
  • Classification
  • Subject Headings
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