薄膜の基本技術

著者

• 金原, 粲 キンバラ, アキラ

書誌事項

薄膜の基本技術

金原粲著

（物理工学実験, 5）

東京大学出版会, 1987.9

第2版

タイトル読み

ハクマク ノ キホン ギジュツ

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• 薄膜の基本技術

  1987

  NDLデジタルコレクション

  限定公開

注記

文献: p157-158

内容説明・目次

目次

• １．　はじめに
• ２．　薄膜作製に必要な真空装置の基礎（基本的な真空装置；真空ポンプの原理）
• ３．　真空蒸着法（基本的な公式；蒸着薄膜作製の具体例）
• ４．　スパタリング法（スパタリングの基本；基本的なスパタリング装置—二極直流スパタリング法）
• ５．　プラズマプロセス（プラズマＣＶＤ；イオンプレーティング）
• ６．　膜厚測定法（膜厚とは何か；繰返し反射干渉法；電気抵抗法）
• ７．　関連技術（単結晶薄膜の作製技術；非晶質薄膜の作製技術；電極の蒸着）

「BOOKデータベース」 より

• NII書誌ID(NCID): BN01422829
• ISBN:
  • 4130630415
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 170p
• 大きさ: 21cm
• 分類:
  • NDC8 : 431.86
  • NDC8 : 420.72
  • NDC7 : 431.89
• 件名:
  • BSH : 薄膜
• 親書誌ID:
  • BN00057706