最新機能成膜プロセス技術 : エレクトロニクスにおける機能膜作製技術

著者

• 逢坂, 哲彌 オオサカ, テツヤ
• 二瓶, 公志 ニヘイ, コウジ

書誌事項

最新機能成膜プロセス技術 : エレクトロニクスにおける機能膜作製技術

逢坂哲彌,二瓶公志編集

広信社, 1987.6

タイトル読み

サイシン キノウ セイマク プロセス ギジュツ : エレクトロニクス ニ オケル キノウマク サクセイ ギジュツ

注記

各章末:文献

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN01531664
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 862p
• 大きさ: 27 cm
• 分類:
  • NDC8 : 571.4