レーザラマン分光法による半導体の評価
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レーザラマン分光法による半導体の評価
東京大学出版会, 1988.4
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レーザ ラマン ブンコウホウ ニ ヨル ハンドウタイ ノ ヒョウカ
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レーザラマン分光法による半導体の評価
1988
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レーザラマン分光法による半導体の評価
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参考文献: 各章末
Description and Table of Contents
Table of Contents
- 1 レーザラマン分光法の原理と装置
- 2 半導体評価技術としてのラマン分光法の特徴
- 3 結晶の面方位の測定
- 4 物質の同定—陽極酸化膜‐半導体構造中の遊離物質の評価
- 5 化合物半導体表面のストレスの評価
- 6 結晶構造の乱れの評価〈1〉—GaAsイオン注入層の構造評価
- 7 結晶構造の乱れの評価〈2〉—アモルファスシリコンの評価
- 8 局在モードに基づく半導体中の不純物の評価
- 9 プラズモン‐LOフォノン結合モードに基づく電気的特性評価
- 10 混晶半導体の評価
- 11 超格子構造とその無秩序化の評価
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