LSIプロセス工学

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LSIプロセス工学

右高正俊編著 ; 鈴木道夫[ほか]共著

オーム社, 1988.12

改訂2版

Title Transcription

LSI プロセス コウガク

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Description and Table of Contents

Description

ＬＳＩプロセスに応用されている物理・化学現象と、実際の装置・設備の両面から詳しく解説し、急速な技術の進歩に即応できる多方面の知識が得られる内容となっています。日進月歩の技術革新に対応して全面改訂！

Table of Contents

  • １章　概説
  • ２章　ＬＳＩ、超ＬＳＩ基本プロセス概要
  • ３章　ＬＳＩ基本回路構成
  • ４章　ＬＳＩプロセスの基礎
  • ５章　リソグラフィ技術と装置
  • ６章　ＬＳＩプロセス装置
  • ７章　ＬＳＩ、超ＬＳＩプロセス
  • ８章　清浄化技術
  • ９章　結言

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Details

  • NCID
    BN0296515X
  • ISBN
    • 427403223X
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    12,283p
  • Size
    22cm
  • Classification
  • Subject Headings
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