表面と薄膜分析技術の基礎
著者
書誌事項
表面と薄膜分析技術の基礎
海文堂, 1989.6
- タイトル別名
-
Fundamentals of surface and thin film analysis
- タイトル読み
-
ヒョウメン ト ハクマク ブンセキ ギジュツ ノ キソ
電子リソースにアクセスする 全1件
-
-
表面と薄膜分析技術の基礎
1989
限定公開 -
表面と薄膜分析技術の基礎
大学図書館所蔵 件 / 全97件
-
該当する所蔵館はありません
- すべての絞り込み条件を解除する
この図書・雑誌をさがす
注記
文献:各章末
内容説明・目次
内容説明
本書では、イオン、電子、光子等の固体内の振舞いを示すとともに、その結果として生ずる現象を材料分析に応用する際の理論的根拠、分析を行うための装置構成、さらには実際の分析を行う際に遭遇するであろう問題点を、豊富な例題をまじえて解説している。
目次
- １章 序章—概念、単位、そしてボーア原子
- ２章 原子衝突と後方散乱法
- ３章 軽イオンのエネルギー損失と深さプロファイル
- ４章 スパッタによる深さプロファイル—２次イオン質量分析法
- ５章 チャネリング
- ６章 電子‐電子相互作用と分子分光法の深さ感度
- ７章 表面構造解析
- ８章 固体中の光子吸収とＥＸＡＦＳ
- ９章 Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）
- １０章 放射遷移と電子マイクロプローブ
- １１章 非放射遷移とオージェ電子分光法
- １２章 核技術—放射化分析と即発放射線分析
「BOOKデータベース」 より
