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コンピュータによるシリコンテクノロジー

山本良一編

海文堂出版, 1990.4-1990.5

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タイトル読み

コンピュータ ニヨル シリコン テクノロジー

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注記

1の執筆者: 浜田典昭ほか

2の執筆者: 押山淳ほか

文献: 各章末

内容説明・目次

巻冊次

1 ISBN 9784303713805

目次

  • 1 バルクの電子構造
  • 2 シリコンクラスタ
  • 3 シリコンポリマ
  • 4 アモルファスシリコンの構造と電子状態
  • 5 アモルファスシリコン(実験)
  • 6 原子間力とその応用
  • 7 シリコンMBE成長とRHEED強度振動
  • 8 シリコン融体および結晶成長のシミュレーション
  • 9 SiO〓2の多形構造のシミュレーション
  • 10 転位
巻冊次

2 ISBN 9784303714000

目次

  • 1 点欠陥・不純物の拡散と電子構造
  • 2 シリコンの点欠陥と拡散—実験
  • 3 深い不純物準位の電子構造の計算と物質設計
  • 4 シリコン中の酸素析出プロセス
  • 5 FZおよびCZシリコン結晶中の点欠陥の挙動
  • 6 シリコン中の結晶粒界の原子構造と電子構造
  • 7 太陽電池のシミュレーション
  • 8 シリコン・シリサイド界面—理論
  • 9 SiO〓2/Si界面状態と素子特性
  • 10 シリコンデバイスのシミュレーション

「BOOKデータベース」 より

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