ULSIプロセスの基礎技術

Author(s)

• 古川, 静二郎 フルカワ, セイジロウ
• 石原, 健 イシハラ, タケシ
• 堂山, 昌男 ドウヤマ, マサオ

Bibliographic Information

ULSIプロセスの基礎技術

古川静二郎編 ; 石原健 [ほか] 共著

（Maruzen advanced technology / 菅野卓雄 [ほか] 編集, . 材料工学編 / 堂山昌男 [ほか] 編||ザイリョウ コウガクヘン ; M08）

丸善, 1991.3

Title Transcription

ULSI プロセス ノ キソ ギジュツ

Note

各章末: 文献

Description and Table of Contents

Description

本書はＵＬＳＩプロセスに関連するあらゆる技術を幅広く網羅し、それぞれの分野の第一人者が各章の執筆を担当している。２１世紀に向けてシリコン加工技術がどのように発展し、ＵＬＳＩはどこまで進むのか、今後解決されるべき問題は何か、そのすべてを展望する。

Table of Contents

• １章　ＵＬＳＩ基礎技術の展望
• ２章　光リソグラフィー
• ３章　Ｘ線リソグラフィー
• ４章　ドライエッチング
• ５章　薄膜形成技術
• ６章　集束イオンビーム技術
• ７章　ＳＯＩ技術
• ８章　ＵＬＳＩプロセシングにおける欠陥制御

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Details

• NCID: BN06180206
• ISBN:
  • 4621035835
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Place of Publication: 東京
• Pages/Volumes: xi, 262p
• Size: 22cm
• Classification:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC7 : 549.8
• Subject Headings:
  • BSH : 集積回路
  • NDLSH : 集積回路
• Parent Bibliography ID:
  • BN02646184