ULSIプロセスの基礎技術

著者

• 古川, 静二郎 フルカワ, セイジロウ
• 石原, 健 イシハラ, タケシ
• 堂山, 昌男 ドウヤマ, マサオ

書誌事項

ULSIプロセスの基礎技術

古川静二郎編 ; 石原健 [ほか] 共著

（Maruzen advanced technology / 菅野卓雄 [ほか] 編集, . 材料工学編 / 堂山昌男 [ほか] 編||ザイリョウ コウガクヘン ; M08）

丸善, 1991.3

タイトル読み

ULSI プロセス ノ キソ ギジュツ

注記

各章末: 文献

内容説明・目次

内容説明

本書はＵＬＳＩプロセスに関連するあらゆる技術を幅広く網羅し、それぞれの分野の第一人者が各章の執筆を担当している。２１世紀に向けてシリコン加工技術がどのように発展し、ＵＬＳＩはどこまで進むのか、今後解決されるべき問題は何か、そのすべてを展望する。

目次

• １章　ＵＬＳＩ基礎技術の展望
• ２章　光リソグラフィー
• ３章　Ｘ線リソグラフィー
• ４章　ドライエッチング
• ５章　薄膜形成技術
• ６章　集束イオンビーム技術
• ７章　ＳＯＩ技術
• ８章　ＵＬＳＩプロセシングにおける欠陥制御

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN06180206
• ISBN:
  • 4621035835
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: xi, 262p
• 大きさ: 22cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC7 : 549.8
• 件名:
  • BSH : 集積回路
  • NDLSH : 集積回路
• 親書誌ID:
  • BN02646184