半導体ドライエッチング技術

Bibliographic Information

半導体ドライエッチング技術

徳山巍編著

(集積回路プロセス技術シリーズ)

産業図書, 1992.10

Title Transcription

ハンドウタイ ドライ エッチング ギジュツ

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Note

監修: 菅野卓雄

Description and Table of Contents

Description

本書は集積回路プロセス技術シリーズの中の一巻として企画され、ドライエッチング技術を、その基礎から最先端まで集大成してまとめたものであり、1980年に同シリーズから刊行された「半導体プラズマプロセス技術」を補完するものである。

Table of Contents

  • 超LSI技術とドライエッチング
  • ドライエッチングの基礎
  • 最新のドライエッチング技術(シリコン;化合物半導体)
  • ドライエッチングとレジスト技術
  • 最新のドライエッチング装置
  • モデリングとシミュレーション
  • ドライエッチングと計測
  • ドライエッチングの新技術
  • ドライエッチング技術の将来展望

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Details

  • NCID
    BN08137616
  • ISBN
    • 9784782856284
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    xiii, 394p
  • Size
    22cm
  • Classification
  • Subject Headings
  • Parent Bibliography ID
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