半導体ドライエッチング技術
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半導体ドライエッチング技術
（集積回路プロセス技術シリーズ）
産業図書, 1992.10
- Title Transcription
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ハンドウタイ ドライ エッチング ギジュツ
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半導体ドライエッチング技術
1992
Limited -
半導体ドライエッチング技術
Available at / 80 libraries
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Kochi University of Technology.Library
549.7||To45000095034,
549.7||To45000156695, 549.7||To49000156703, 549.7||To49000156711, 549.7||To4500009503, 549.7||To4500015669, 549.7||To4500015670, 549.7||To4500015671 -
Institute of Materials and Systems for Sustainability, Nagoya University未来材料研
549.7||To11118394
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Note
監修: 菅野卓雄
Description and Table of Contents
Description
本書は集積回路プロセス技術シリーズの中の一巻として企画され、ドライエッチング技術を、その基礎から最先端まで集大成してまとめたものであり、１９８０年に同シリーズから刊行された「半導体プラズマプロセス技術」を補完するものである。
Table of Contents
- 超ＬＳＩ技術とドライエッチング
- ドライエッチングの基礎
- 最新のドライエッチング技術（シリコン；化合物半導体）
- ドライエッチングとレジスト技術
- 最新のドライエッチング装置
- モデリングとシミュレーション
- ドライエッチングと計測
- ドライエッチングの新技術
- ドライエッチング技術の将来展望
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