超微細加工の基礎 : 半導体製造技術

著者

• 麻蒔, 立男 アサマキ, タツオ

書誌事項

超微細加工の基礎 : 半導体製造技術

麻蒔立男著

日刊工業新聞社, 1993.3

タイトル読み

チョウビサイ カコウ ノ キソ : ハンドウタイ セイゾウ ギジュツ

注記

参考文献: 各章末

内容説明・目次

目次

• 序章　超微細加工
• 第１章　単結晶引上
• 第２章　熱酸化
• 第３章　リソグラフィー
• 第４章　エッチング
• 第５章　ドーピング—熱拡散とイオン注入
• 第６章　薄膜の基本的性質と薄膜作成法の概要
• 第７章　気層成長法・ＣＶＤ・エピタクシー
• 第８章　蒸着とイオンプレーティング
• 第９章　スパッタ
• 第１０章　平坦化技術

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN08854220
• ISBN:
  • 4526032840
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 2, viii, 261, ivp
• 大きさ: 21cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.8
• 件名:
  • BSH : 半導体