超微細加工の基礎 : 半導体製造技術

書誌事項

超微細加工の基礎 : 半導体製造技術

麻蒔立男著

日刊工業新聞社, 1993.3

タイトル読み

チョウビサイ カコウ ノ キソ : ハンドウタイ セイゾウ ギジュツ

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注記

参考文献: 各章末

内容説明・目次

目次

  • 序章 超微細加工
  • 第1章 単結晶引上
  • 第2章 熱酸化
  • 第3章 リソグラフィー
  • 第4章 エッチング
  • 第5章 ドーピング—熱拡散とイオン注入
  • 第6章 薄膜の基本的性質と薄膜作成法の概要
  • 第7章 気層成長法・CVD・エピタクシー
  • 第8章 蒸着とイオンプレーティング
  • 第9章 スパッタ
  • 第10章 平坦化技術

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BN08854220
  • ISBN
    • 4526032840
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    2, viii, 261, ivp
  • 大きさ
    21cm
  • 分類
  • 件名
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