シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

Author(s)

• 柏木, 正弘 カシワギ, マサヒロ
• 服部, 毅 ハットリ, タケシ

Bibliographic Information

シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

柏木正弘, 服部毅編著

リアライズ社, 1995.2

Title Transcription

シリコン ウェーハ ヒョウメン ノ クリーンカ ギジュツ

Note

各章末: 参考文献

Details

• NCID: BN13748765
• ISBN:
  • 4947655755
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Place of Publication: 東京
• Pages/Volumes: 333, 8p
• Size: 30cm
• Classification:
  • NDC8 : 549.8
  • NDLC : ND371
• Subject Headings:
  • NDLSH : シリコン(半導体)