シリコンCVDプロセスおよびナノクラスター形成に関する化学反応機構の解明

著者

• 松為, 宏幸 マツイ, ヒロユキ

書誌事項

シリコンCVDプロセスおよびナノクラスター形成に関する化学反応機構の解明

研究代表者 松為宏幸

松為宏幸, 1996.3

タイトル読み

シリコン CVD プロセス オヨビ ナノクラスター ケイセイ ニ カンスル カガク ハンノウ キコウ ノ カイメイ

注記

平成7年度科学研究費補助金(一般研究A)研究成果報告書

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN15075144
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: engjpn
• 出版地: [東京]
• ページ数/冊数: 1冊
• 大きさ: 26cm