新田, 雄久 ニッタ, カツヒサ

ID:DA10030074

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  • フッ素化学が拓くプロセスイノベーション

    大見忠弘編著 ; 新田雄久, 三木正博共編

    リアライズ・アドバンストテクノロジ c2004 Basic selection

    所蔵館1館

  • SOIの科学

    UCS半導体基盤技術研究会編 ; 大見忠弘, 新田雄久監修

    リアライズ社 2000.4 Surface science technology series 4

    所蔵館13館

  • シリコンの科学

    UCS半導体基盤技術研究会編 ; 大見忠弘, 新田雄久監修

    リアライズ社 1996.6 Surface science technology series 3

    所蔵館44館

  • フッ素化学が拓くプロセスイノベーション

    大見忠弘編著 ; 新田雄久, 三木正博共編

    リアライズ社 1995.7

    所蔵館6館

  • フッ素化学

    UCS半導体基盤技術研究会編

    リアライズ社 1991.8 Ultra clean technology series no.11

    所蔵館1館

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