半導体デバイス : 基礎理論とプロセス技術

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半導体デバイス : 基礎理論とプロセス技術

S.M. ジィー著 ; 南日康夫, 川辺光央, 長谷川文夫訳

産業図書, 2004.3

第2版

Other Title

Semiconductor devices : physics and technology

Title Transcription

ハンドウタイ デバイス : キソ リロン ト プロセス ギジュツ

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Note

参考文献: 各章末

原著(John Wiley & Sons, c1985)の翻訳

Description and Table of Contents

Description

本書は、最近の半導体デバイス物理と作製技術のほとんどを網羅した入門書である。デバイス形成の各段階において、評価と作製技術の理論と実際が集積回路に重点をおきつつ述べられている。

Table of Contents

  • 第１部　半導体物理（エネルギーバンドと熱平衡状態におけるキャリア密度；キャリアの輸送現象）
  • 第２部　半導体デバイス（ｐ‐ｎ接合；バイポーラ・トランジスタとその関連デバイス；ＭＯＳＦＥＴと関連デバイス　ほか）
  • 第３部　半導体技術（結晶成長とエピタキシィ；薄膜の形成；リソグラフィとエッチング　ほか）

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Details

  • NCID
    BA66576735
  • ISBN
    • 9784782855508
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Original Language Code
    eng
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    14, 499p
  • Size
    27cm
  • Classification
  • Subject Headings
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