半導体デバイス : 基礎理論とプロセス技術

著者

• Sze, S. M.
• 南日, 康夫 ナンニチ, ヤスオ
• 川辺, 光央 カワベ, ミツオ
• 長谷川, 文夫 ハセガワ, フミオ

書誌事項

半導体デバイス : 基礎理論とプロセス技術

S.M. ジィー著 ; 南日康夫, 川辺光央, 長谷川文夫訳

産業図書, 2004.3

第2版

タイトル別名

Semiconductor devices : physics and technology

タイトル読み

ハンドウタイ デバイス : キソ リロン ト プロセス ギジュツ

注記

参考文献: 各章末

原著(John Wiley & Sons, c1985)の翻訳

内容説明・目次

内容説明

本書は、最近の半導体デバイス物理と作製技術のほとんどを網羅した入門書である。デバイス形成の各段階において、評価と作製技術の理論と実際が集積回路に重点をおきつつ述べられている。

目次

• 第１部　半導体物理（エネルギーバンドと熱平衡状態におけるキャリア密度；キャリアの輸送現象）
• 第２部　半導体デバイス（ｐ‐ｎ接合；バイポーラ・トランジスタとその関連デバイス；ＭＯＳＦＥＴと関連デバイス　ほか）
• 第３部　半導体技術（結晶成長とエピタキシィ；薄膜の形成；リソグラフィとエッチング　ほか）

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA66576735
• ISBN:
  • 9784782855508
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 原本言語コード: eng
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 14, 499p
• 大きさ: 27cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.8
  • NDC9 : 549.8
• 件名:
  • BSH : 半導体