製造プロセスで発生する付着および脱離の分子機構と洗浄操作の高効率化

書誌事項

製造プロセスで発生する付着および脱離の分子機構と洗浄操作の高効率化

研究代表者:中西一弘

(科学研究費補助金(基盤研究A)研究成果報告書, 平成16-19年度)

中西一弘, 2008.3

タイトル読み

セイゾウ プロセス デ ハッセイ スル フチャク オヨビ ダツリ ノ ブンシ キコウ ト センジョウ ソウサ ノ コウコウリツカ

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注記

[課題番号]: 16206076

研究分担者: 今村維克, 今中洋行

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA89282529
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpneng
  • 出版地
    [岡山]
  • ページ数/冊数
    231p
  • 大きさ
    30cm
  • 分類
  • 親書誌ID
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