フォトレジスト材料開発の新展開
著者
書誌事項
フォトレジスト材料開発の新展開
シーエムシー出版, 2009.8
- タイトル別名
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New trends of photoresists
エレクトロニクスシリーズ
- タイトル読み
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フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
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注記
カバージャケットに「エレクトロニクスシリーズ」とあり
内容説明・目次
目次
- リソグラフィ技術の概要
- 光化学反応の基礎
- 光酸発生剤
- 従来型フォトレジスト—ｇ，ｉ線ノボラック系レジストを中心にして
- ＫｒＦレジスト
- ＡｒＦレジスト
- ＡｒＦ液浸用レジスト
- ダブルパターニング用材料
- ＥＵＶレジスト
- 電子線レジスト
- 分子レジスト
- 反射防止材料
- ＵＶナノインプリント用材料
- ブロック共重合体リソグラフィ
「BOOKデータベース」 より