よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み : リソグラフィ技術の核心に迫る : 微細化の鍵

Bibliographic Information

よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み : リソグラフィ技術の核心に迫る : 微細化の鍵

佐藤淳一著

(How-nual図解入門)

秀和システム, 2011.10

Title Transcription

ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ リソグラフィ ノ キホン ト シクミ : リソグラフィ ギジュツ ノ カクシン ニ セマル : ビサイカ ノ カギ

Available at  / 33 libraries

Note

文献: p271

Description and Table of Contents

Description

プロセスフローを例にして基礎から発展までの技術が豊富なイラストで手に取るようにわかる。

Table of Contents

  • リソグラフィ技術とは引き算のプロセス?
  • 光リソグラフィの発展
  • 露光技術と装置
  • レジスト材料
  • レジスト塗布と現像
  • マスクとリソグラフィ技術
  • EUVリソグラフィ
  • リソグラフィの計測技術
  • 多彩なパターニング技術
  • CMOSロジックプロセス(フロントエンド)
  • a−Si TFTプロセス
  • a−Si太陽電池プロセス

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Details

  • NCID
    BB07554941
  • ISBN
    • 9784798030630
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    271p
  • Size
    21cm
  • Classification
  • Subject Headings
  • Parent Bibliography ID
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