半導体・MEMSのための超臨界流体

著者

• 近藤, 英一 コンドウ, エイイチ
• 上野, 和良 ウエノ, カズヨシ
• 内田, 寛 ウチダ, ヒロシ
• 曽根, 正人 ソネ, マサト
• 生津, 英夫 ナマツ, ヒデオ
• 服部, 毅 ハットリ, タケシ
• 堀, 照夫 ホリ, テルオ
• 森口, 誠 モリグチ, マコト

書誌事項

半導体・MEMSのための超臨界流体

近藤英一編著 ; 上野和良 [ほか] 著

コロナ社, 2012.9

タイトル別名

Supercritical fluid technology in MEMS and semiconductor processing

半導体MEMSのための超臨海流体

タイトル読み

ハンドウタイ MEMS ノ タメ ノ チョウリンカイ リュウタイ

注記

その他の著者: 内田寛, 曽根正人, 生津英夫, 服部毅, 掘照夫, 森口誠

引用・参考文献: p[212]-222

内容説明・目次

目次

• １　超臨界流体とマイクロ・ナノプロセス
• ２　半導体とＭＥＭＳの製造プロセス
• ３　超臨界乾燥
• ４　超臨界流体を用いた半導体・ＭＥＭＳ洗浄技術
• ５　多孔質薄膜と細孔エンジニアリング
• ６　めっきへの応用
• ７　化学的薄膜堆積
• ８　超臨界流体を用いたエッチング加工

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB10243699
• ISBN:
  • 9784339008371
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: vii, 227p
• 大きさ: 21cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.8
  • NDC9 : 549.8
  • NDC9 : 431.8
  • NDC9 : 431.3
  • NDLC : PA51
• 件名:
  • BSH : 半導体
  • BSH : マイクロマシン
  • BSH : 超臨界流体
  • NDLSH : マイクロエレクトロニクス