超並列電子ビーム描画装置の開発 : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して
著者
書誌事項
超並列電子ビーム描画装置の開発 : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して
東北大学出版会, 2018.6
- タイトル別名
-
Development of massive parallel electron beam write system : aiming at digital fabrication of integrated circuits
超並列電子ビーム描画装置の開発 : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して
- タイトル読み
-
チョウヘイレツ デンシ ビーム ビョウガ ソウチ ノ カイハツ : シュウセキ カイロ ノ ディジタル ファブリケーション オ メザシテ
大学図書館所蔵 全47件
  青森
  岩手
  宮城
  秋田
  山形
  福島
  茨城
  栃木
  群馬
  埼玉
  千葉
  東京
  神奈川
  新潟
  富山
  石川
  福井
  山梨
  長野
  岐阜
  静岡
  愛知
  三重
  滋賀
  京都
  大阪
  兵庫
  奈良
  和歌山
  鳥取
  島根
  岡山
  広島
  山口
  徳島
  香川
  愛媛
  高知
  福岡
  佐賀
  長崎
  熊本
  大分
  宮崎
  鹿児島
  沖縄
  韓国
  中国
  タイ
  イギリス
  ドイツ
  スイス
  フランス
  ベルギー
  オランダ
  スウェーデン
  ノルウェー
  アメリカ
この図書・雑誌をさがす
注記
その他のタイトルは標題紙裏による
その他の著者: 宮口裕, 小島明, 池上尚克, 越田信義, 菅田正徳, 大井英之
関係発表文献一覧: p217-223
参考文献: 各章末
内容説明・目次
目次
- 第1章 マスクレス露光と電子ビーム描画・転写(マスクレス露光(描画);各種電子ビーム描画・転写)
- 第2章 並列電子ビーム描画の課題(電子ビーム制御;電子ビームの集束と電子レンズ ほか)
- 第3章 並列電子ビーム描画装置用電子源(研究されてきた各種電子源;ナノクリスタルシリコン(nc‐Si)電子源)
- 第4章 超並列電子ビーム描画(MPEBW)(システム構成;電子源アレイ ほか)
- 第5章 応用と今後の課題(デバイス大量生産への応用;マルチビーム技術の直接描画への応用 ほか)
「BOOKデータベース」 より