超並列電子ビーム描画装置の開発 : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して
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超並列電子ビーム描画装置の開発 : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して
東北大学出版会, 2018.6
- Other Title
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Development of massive parallel electron beam write system : aiming at digital fabrication of integrated circuits
超並列電子ビーム描画装置の開発 : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して
- Title Transcription
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チョウヘイレツ デンシ ビーム ビョウガ ソウチ ノ カイハツ : シュウセキ カイロ ノ ディジタル ファブリケーション オ メザシテ
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Note
その他のタイトルは標題紙裏による
その他の著者: 宮口裕, 小島明, 池上尚克, 越田信義, 菅田正徳, 大井英之
関係発表文献一覧: p217-223
参考文献: 各章末
Description and Table of Contents
Table of Contents
- 第1章 マスクレス露光と電子ビーム描画・転写(マスクレス露光(描画);各種電子ビーム描画・転写)
- 第2章 並列電子ビーム描画の課題(電子ビーム制御;電子ビームの集束と電子レンズ ほか)
- 第3章 並列電子ビーム描画装置用電子源(研究されてきた各種電子源;ナノクリスタルシリコン(nc‐Si)電子源)
- 第4章 超並列電子ビーム描画(MPEBW)(システム構成;電子源アレイ ほか)
- 第5章 応用と今後の課題(デバイス大量生産への応用;マルチビーム技術の直接描画への応用 ほか)
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