EUVリソグラフィ技術 Extreme ultraviolet lithography : レジスト材料・光源・露光装置技術・各種構成の変遷と現状 Extreme ultraviolet lithography

著者

• 渡邊, 健夫 ワタナベ, タケオ

書誌事項

EUVリソグラフィ技術 = Extreme ultraviolet lithography : レジスト材料・光源・露光装置技術・各種構成の変遷と現状

渡邊健夫 監修 = Extreme ultraviolet lithography

AndTech, 2023.5

タイトル読み

EUV リソグラフィ ギジュツ = Extreme ultraviolet lithography : レジスト ザイリョウ ・ コウゲン ・ ロコウ ソウチ ギジュツ ・ カクシュ コウセイ ノ ヘンセン ト ゲンジョウ

注記

文献あり

表現種別: テキスト (ncrcontent), 機器種別: 機器不用 (ncrmedia), キャリア種別: 冊子 (ncrcarrier)

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BD04608131
• ISBN:
  • 9784909118561
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 川崎
• ページ数/冊数: 193 p
• 大きさ: 26 cm
• 分類:
  • NDLC : ND386
  • NDC10 : 549.7
• 件名:
  • NDLSH : リソグラフィー