微細加工とレジスト

著者

• 野々垣, 三郎 ノノガキ, サブロウ

書誌事項

微細加工とレジスト

野々垣三郎著

（高分子新素材one point / 高分子学会編, 3）

共立出版, 1987.11

タイトル読み

ビサイ カコウ ト レジスト

内容説明・目次

目次

• １．　レジストを使う微細加工（写真製版技術；半導体用レジストに要求される特性）
• ２．　フォトレジスト
• ３．　電子線レジスト（電子線を使う微細加工；電子線を使う微細加工の解像限界）
• ４．　Ｘ線レジスト（Ｘ線を使う微細加工；Ｘ線を使う微細加工の解像限界）
• ５．　将来展望（フォトレジストの将来；電子線レジストの将来；Ｘ線レジストの将来）

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN01734322
• ISBN:
  • 4320042271
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: iv, 99p
• 大きさ: 19cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC7 : 549.8
• 件名:
  • BSH : 集積回路
  • NDLSH : 集積回路
  • NDLSH : 電子光学
• 親書誌ID:
  • BN01106647