スパッタ技術

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スパッタ技術

和佐清孝, 早川茂著

共立出版, 1988.6

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スパッタ ギジュツ

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Note

文献: 各章末

Description and Table of Contents

Description

本書は、スパッタ技術の世界的権威である著者らの基礎から実用に至る研究実績を基にして、実際に役立つ最先端のスパッタ技術を収録したもので、超電導を始めとした２１世紀への材料開発に不可欠、必携の書である。セラミックス高温超電導体の薄膜化など最新の具体的事例を数多くとりあげスパッタの基礎から応用に至る技術を詳細かつ平易に解説。

Table of Contents

  • １章　序言（スパッタ現象；スパッタとエレクトロニクス；スパッタと新素材）
  • ２章　スパッタの基礎（スパッタ率とその変化要素；スパッタ粒子；スパッタ機構）
  • ３章　スパッタ装置と基本特性（放電特性；スパッタ装置；スパッタ装置の取扱い）
  • ４章　スパッタによる薄膜化（化合物薄膜とその形成法；酸化物薄膜の形成；窒化物薄膜の形成；炭化物、珪化物薄膜の形成；セレン化合物薄膜の形成；アモルファス薄膜の形成；有機物薄膜の形成；超格子構造の形成）
  • ５章　スパッタによる微細加工（イオンビームスパッタエッチング；ダイオードスパッタエッチング；プラズマエッチング）

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Details

  • NCID
    BN02297664
  • ISBN
    • 4320084772
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    v, 227p
  • Size
    22cm
  • Classification
  • Subject Headings
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