シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

著者

• 柏木, 正弘 カシワギ, マサヒロ
• 服部, 毅 ハットリ, タケシ

書誌事項

シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

柏木正弘, 服部毅編著

リアライズ社, 1995.2

タイトル読み

シリコン ウェーハ ヒョウメン ノ クリーンカ ギジュツ

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• シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

  1995

  NDLデジタルコレクション

  限定公開

注記

各章末: 参考文献

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN13748765
• ISBN:
  • 4947655755
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 333, 8p
• 大きさ: 30cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.8
  • NDLC : ND371
• 件名:
  • NDLSH : シリコン(半導体)