エピタキシャル成長のメカニズム

書誌事項

エピタキシャル成長のメカニズム

中嶋一雄責任編集

(シリーズ : 結晶成長のダイナミクス / 西永頌, 宮澤信太郎, 佐藤清隆シリーズ編集委員, 3)

共立出版, 2002.5

タイトル読み

エピタキシャル セイチョウ ノ メカニズム

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注記

文献: 各節末

内容説明・目次

内容説明

本巻では、エピタキシャル成長の熱力学、結晶成長のカイネティクス、基板の表面状態とエピタキシャル成長、ヘテロエピタキシャル成長といった、エピタキシャル成長にとって最も基本となり重要なテーマを取り上げ解説している。成長方法は、最も基本となる液相エピタキシャル成長、気相エピタキシャル成長、分子線エピタキシャル成長の3方法を取り上げた。

目次

  • 1 基本概念(エピタキシャル成長の基礎;結晶成長に影響を与える因子;成長モード)
  • 2 エピタキシャル成長の熱力学(固液平衡からの成長(LPE);固気平衡からの成長)
  • 3 結晶成長のカイネティクス(成長表面のカイネティクス;溶液成長における溶質元素の拡散;気相成長の物質輸送効果)
  • 4 基板の表面状態とエピタキシャル成長(面方位とエピタキシャル成長;微傾斜面とエピタキシー;サーファクタントを利用した成長)
  • 5 ヘテロエピタキシャル成長(ヘテロエピタキシャル成長と格子整合;ヘテロ構造の応力・歪み)

「BOOKデータベース」 より

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA56747445
  • ISBN
    • 4320034120
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    xi, 210p
  • 大きさ
    22cm
  • 分類
  • 件名
  • 親書誌ID
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