超並列電子ビーム描画装置の開発 : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

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超並列電子ビーム描画装置の開発 : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

江刺正喜 [ほか] 著

東北大学出版会, 2018.6

タイトル別名

Development of massive parallel electron beam write system : aiming at digital fabrication of integrated circuits

超並列電子ビーム描画装置の開発 : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

タイトル読み

チョウヘイレツ デンシ ビーム ビョウガ ソウチ ノ カイハツ : シュウセキ カイロ ノ ディジタル ファブリケーション オ メザシテ

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注記

その他のタイトルは標題紙裏による

その他の著者: 宮口裕, 小島明, 池上尚克, 越田信義, 菅田正徳, 大井英之

関係発表文献一覧: p217-223

参考文献: 各章末

内容説明・目次

目次

  • 第１章　マスクレス露光と電子ビーム描画・転写（マスクレス露光（描画）；各種電子ビーム描画・転写）
  • 第２章　並列電子ビーム描画の課題（電子ビーム制御；電子ビームの集束と電子レンズ　ほか）
  • 第３章　並列電子ビーム描画装置用電子源（研究されてきた各種電子源；ナノクリスタルシリコン（ｎｃ‐Ｓｉ）電子源）
  • 第４章　超並列電子ビーム描画（ＭＰＥＢＷ）（システム構成；電子源アレイ　ほか）
  • 第５章　応用と今後の課題（デバイス大量生産への応用；マルチビーム技術の直接描画への応用　ほか）

「BOOKデータベース」 より

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